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주사전자현미경(SEM, Scanning electron microscope)는 2,000배 정도까지의 배율로 관찰할 수 있는 광학현미경에 비하여 SEM은 80만 배까지의 높은 배율로 시료의 관찰이 가능하며, 관측용 시료 제작이 용이하여 시료 표면 관찰에 가장 널리 사용됩니다. 10~100배 정도의 저배율 관찰에도 사용하실 수 있는 장비로서, 고배율에서는 시계(視界)가 좁지만 저배율에서는 시계가 넓어져서 대상물 전체를 파악하기에 유용하므로 종종 저배율 관찰이 요구됩니다. SEM은 전자Beam을 시료 표면에 주사할 때 시료 표면에서 방출되는 2차 전자(Secondary electron)를 검출기로 검출하고 증폭하여 모니터상에 동기로 주사하며 표면의 높낮이를 나타내는 영상으로 형상화하는 분석 장치입니다. 이때 SEM 장비 내 장착된 에너지 분산X선 분광분석기(EDS, Energy dispersive X-ray spectroscope)를 이용하여 관찰 시료의 구성성분을 분석 할 수 있습니다.

Surface Analysis, Failure Analysis : Package, Die, PCB, SMT Level , Reverse Engineering, Voltage contrast imaging analysis, Size Measurement, EDS analysis